器输出进行监控。林阳认为可以加入自动功率控制系统,实时检测光强波动并反馈调节,保证输出稳定在设定值。
然后是选择光阻材料。光刻所用的光阻层直接影响到图形边缘的清晰度。林阳记得早期光刻使用的是简单的胶片光掩模。为了获得更好的效果,需要研发专门的光阻胶液。这方面可以组织化学专家进行针对性的研发。
此外,还要注意光刻时的温湿度环境控制。图形的精细度非常敏感,需要保持在标准状态之下进行。这需要配备温控系统和气体过滤净化装置,控制车间环境。
把这些关键细节都考虑到位后,光刻机的研制就可谓是万事俱备。林阳已经能够清晰地描绘出整个设计方案了。
当然这些东西只是他之前获得的设备和理论知识。
想要真正的制造,还需要一些准备。
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